<HTML>  
<HEAD>
  <META NAME="GENERATOR" CONTENT="Adobe PageMill 3.0J Mac">
  <META HTTP-EQUIV="Content-Type" CONTENT="text/html;CHARSET=UTF-8">
  <TITLE>材質制御学研究室／深見一弘／助成金一覧</TITLE>
  <link rel="shortcut icon" href="favicon.ico" type="image/vnd.microsoft.icon">
  <link rel="icon" href="favicon.ico" type="image/vnd.microsoft.icon">
<script>
  (function(i,s,o,g,r,a,m){i['GoogleAnalyticsObject']=r;i[r]=i[r]||function(){
  (i[r].q=i[r].q||[]).push(arguments)},i[r].l=1*new Date();a=s.createElement(o),
  m=s.getElementsByTagName(o)[0];a.async=1;a.src=g;m.parentNode.insertBefore(a,m)
  })(window,document,'script','//www.google-analytics.com/analytics.js','ga');

  ga('create', 'UA-52628516-4', 'auto');
  ga('send', 'pageview');

</script>
</HEAD>
<BODY bgcolor="#f5f5f5">

<P ALIGN=RIGHT><B><FONT COLOR="#009999" SIZE="+2" FACE="Osaka">助成金一覧（深見一弘）</FONT></B><FONT FACE="Osaka"></FONT></P>
<FONT FACE="Osaka"><HR ALIGN=LEFT></FONT>
<P><B><FONT FACE="Osaka">科学研究費補助金（代表) [直接経費]</FONT></B></P>

<UL>
  <LI><FONT FACE="Osaka">ナノカプセル電析によるハイエントロピー合金薄膜の創製 [5,000,000円]<BR>
  令和4年度〜令和6年度, 挑戦的研究(萌芽) No. 22K18887</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">陽極酸化によるSiC表面加工技術の体系化と構造材料・電子材料への展開 [13,300,000円]<BR>
  令和3年度〜令和5年度, 基盤研究(B) No. 21H01670</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">時空間パターン形成化学とキラル分子化学の国際連携・融合研究 [14,300,000円]<BR>
  令和2年度〜令和5年度, 国際共同研究強化(B) No. 20KK0122</FONT><br><br>
    <LI><FONT FACE="Osaka">液体論の観点から再考するナノポーラス電極の電気化学 [10,300,000円]<BR>
  平成27年度〜平成29年度, 基盤研究(B) No. 15H03877</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">電気化学振動波のパターン認識による隙間腐食診断装置の開発 [3,000,000円]<BR>
  平成27年度〜平成28年度, 挑戦的萌芽研究 No. 15K13806</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">液体論に立脚したナノポーラス電極におけるデンドライト抑制の物理機構 [3,400,000円]<BR>
  平成25年度〜平成26年度, 若手研究(B) No. 25810135</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">電気化学反応における成長界面のモデル化に基づく新奇デンドライト抑制法 [3,510,000円]<BR>
  平成23年度〜平成24年度, 若手研究(B) No. 23750239</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">多孔質シリコンへの導電性高分子膜の電解重合によるマイクロタスの作製 [2,747,000円]<BR>
  平成19年度〜平成21年度, 若手研究(スタートアップ) No. 19850012</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">金属電析反応と電気化学振動とのカップリングによるナノ秩序構造形成法の開拓 [1,800,000円]<BR>
  平成17年度〜平成18年度, 特別研究員奨励費 No. 05J09682</FONT><br><br>
</UL>

<P><B><FONT FACE="Osaka">科学研究費補助金（分担）</FONT></B></P>

<UL>
<LI><FONT FACE="Osaka">キラル金メソ構造体を用いたキラル分子認識の分子・原子スケールメカニズム<BR>
  ［研究代表者：R. Oda］<BR>
  令和5年度〜令和7年度, 基盤研究(B) No. XXHXXXXX</FONT><br><br>
<LI><FONT FACE="Osaka">レーザーと磁場の融合による高エネルギー密度プラズマの閉じ込めへの挑戦と応用<BR>
  ［研究代表者：岸本泰明］<BR>
  令和3年度〜令和7年度, 基盤研究(A) No. 21H04452</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">グライム系室温アルミニウム電析：錯体構造制御による高度化<BR>
  ［研究代表者：北田 敦］<BR>
  令和元年度〜令和3年度, 基盤研究(B) No. 19H02490</FONT><br><br>
    <LI><FONT FACE="Osaka">高強度レーザーと構造性媒質の相互作用による極限輻射プラズマ生成・閉じ込めと応用<BR>
  ［研究代表者：岸本泰明］<BR>
  平成29年度〜令和2年度, 基盤研究(A) No. 17H01180</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">非水電析の高度化に向けた反応場制御～３つの速度論的アプローチ～<BR>
  ［研究代表者：邑瀬邦明］<BR>
  平成28年度〜平成30年度, 基盤研究(A) No. 16H02411</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">常温での高電流密度希土類電析を可能にする“イオン液体添加”グライム浴の創製<BR>
  ［研究代表者：邑瀬邦明］<BR>
  平成27年度, 挑戦的萌芽研究 No. 15K14193</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">電気化学ツールによるシリコンのナノ・マイクロ構造微細加工<BR>
  ［研究代表者：尾形幸生］<BR>
  平成22年度〜平成24年度, 基盤研究(B) No. 22350092</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">センサーへの応用を目指すルゲート型多孔質シリコン多層構造の形成<BR>
  ［研究代表者：尾形幸生］<BR>
  平成18年度〜平成20年度, 基盤研究(B) No. 18350107</FONT><br><br>
</UL>

<P><B><FONT FACE="Osaka">その他公的助成金（研究分担者を含む）</FONT></B></P>

<UL>
  <LI><FONT FACE="Osaka">光プローブとプラズマ分光による水中レーザーアブレーションナノプロセスの解明［研究代表者：作花哲夫］<BR>
  2018年度〜2019年度, JSPS　二国間交流事業（日-スロベニア）</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">Chiral Nanostructures for Photonics Applications ［PI: R. Oda (CNRS, Univ. Bordeaux)］<BR>
  2015-2019, Laboratoire International Associé (CNRS)</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">溶媒のはたらきに着目した多孔質電極内における金属ナノ粒子作製法［研究代表者：深見一弘］<BR>
  平成24年度〜平成25年度, 独立行政法人科学技術振興機構（JST）研究成果最適展開支援プログラム（A-STEP）</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">Self-organized formation of porous semiconductors by electrochemical anodization: Understanding nonlinear instabilities［研究代表者：深見一弘］<BR>
  平成23年度〜平成24年度, Humboldt Research Fellowship, The Alexander von Humboldt Foundation, Germany</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">制御された孔径を有する多孔質シリコンへの電解重合を用いた酵素の固定化［研究代表者：深見一弘］<BR>
  平成20年度〜平成21年度, JST シーズ発掘試験 A（発掘型）</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">高効率光エネルギー変換を実現するための光マネージメント材料の開発［研究代表者：佐川 尚］<BR>
  平成25年度〜平成26年度, JSPS　二国間交流事業（日仏）</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">微細Agパターン形成技術に関する研究［研究代表者：尾形幸生］<BR>
  平成20年度〜平成21年度, キヤノン株式会社生産技術研究所</FONT><br><br>
  <LI><FONT FACE="Osaka">高比表面積Mg2Niの研究［研究代表者：中西周次］<BR>
  平成19年度〜平成20年度, 大阪大学</FONT><br><br>
  </UL>

<P><B><FONT FACE="Osaka">奨学寄付金</FONT></B></P>
<UL>
  <LI><FONT FACE="Osaka">SiCを母材とした高強度・高靭性SiC/Al複合材料開発<BR>
  令和2年年度〜令和3年年度，第８回生研学術奨励資金，一般財団法人生産開発科学研究所</FONT><br><br>
</UL>

<P><B><FONT FACE="Osaka">渡航助成金</FONT></B></P>

<UL>
</FONT><FONT FACE="Osaka"></FONT>
</UL>

<FONT FACE="Osaka"><HR ALIGN=LEFT></FONT>
<div align="right"><I><FONT SIZE="-1" FACE="Osaka">designed by Kuniaki
  MURASE with Adobe Dreamweaver(R) CS5.5 for Macintosh</FONT></I></div>
</BODY>
</HTML>